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真空科技与应用展览分类


展览范围
一、真空装备制造设备种类
二、PVD 物理气相沉积设备类
三、CVD 化学气相沉积设备类
四、真空系统
五、镀膜系统
六、电控系统
七、气体系统
八、冷气系统
九、防护系统
十、辅助系统
十一、加载/卸载系统
十二、工装治具
十三、真空镀膜关联材料
十四、镀膜加工
十五、检测分析
十六、检测服务
十七、应用行业及领域
三、CVD 化学气相沉积设备类

化学气相沉积（CVD）设备种类The Types of Chemical Vapor Deposition (CVD) Equipment


常压化学气相沉积设备 

Atmospheric Pressure Chemical 

Vapor Deposition (APCVD)

亚常压化学气相沉积设备 

Sub-Atmospheric Chemical Vapor 

Deposition (SACVD)

低压化学气相沉积设备

Low Pressure Chemical Vapor 

Deposition (LPCVD)

等离子体增强化学气相沉积设备

Plasma-Enhanced Chemical 

Vapor Deposition (PECVD)

金属有机化学气相沉积设备

Metal-Organic Chemical Vapor 

Deposition (MOCVD)

热壁化学气相沉积设备

Hot-Wall Chemical Vapor 

Deposition (Hot-Wall CVD)

冷壁化学气相沉积设备

Cold-Wall Chemical Vapor 

Deposition (Cold-Wall CVD)

高密度等离子体化学气相沉积设备

High Density Plasma Chemical 

Vapor Deposition (HDPCVD)

激光辅助化学气相沉积设备

Laser-Assisted Chemical Vapor 

Deposition (LCVD)

远程等离子体化学气相沉积设备

Remote Plasma Chemical Vapor 

Deposition (RPCVD)




热原子层沉积设备Thermal Atomic Layer Deposition Equipment


等离子体增强原子层沉积设备

Plasma-Enhanced Atomic Layer 

Deposition（PEALD）

空间原子层沉积设备

Spatial Atomic Layer Deposition

(Spatial ALD）

原子层蚀刻辅助沉积设备

Atomic Layer Etching Assisted 

Deposition（ALE-ALD）

电容耦合等离子体增强原子层沉积设备

Capacitively Coupled Plasma-

Enhanced Atomic Layer 

Deposition（CCP-PEALD）

脉冲原子层沉积设备

Pulsed Atomic Layer Deposition

(Pulsed-ALD）

中国深圳宝安区沙井街道办沙井路118号维纳斯皇家酒店(国际会展中心店)

Venus Royal Hotel (International Convention and Exhibition Center Branch)No. 118 Shajing Road, Shajing Street, Bao'an District Shenzhen, China


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