1. 金属靶材（部分）Metal Target Materials (Partial)
纯金属靶pure metal target：
| 铝靶（Al）、铜靶（Cu）、钛靶（Ti）、镍靶（Ni）、铬靶（Cr）、钨（W）、锆（Zr）、铌（Nb）、钼（Mo）、钒（V）、钪（Sc）、镧（La）、铟（In）、锡（Sn）、铅（Pb）、锌（Zn）、镁（Mg）、铁（Fe）、钴（Co） |
合金靶材alloy target：
| 钛铝靶（TiAl）、镍铬靶（NiCr）、钴铬铂靶（CoCrPt）、铝硅靶（Al-Si）、铝铜靶（Al-Cu）、铜铟靶（Cu-In）、铜锌靶（Cu-Zn）、钛锆靶（Ti-Zr）、镍铬靶（Ni-Cr）、镍铁靶（Ni-Fe）、铜铟镓靶（Cu-In-Ga）、铝钕硅靶（Al-Nd-Si）、镍铬铁靶（Ni-Cr-Fe）、钛铝钒靶（Ti-Al-V）、锌铝镁靶（Zn-Al-Mg）、高温合金靶（如Ni-Cr-Co-Mo）、形状记忆合金靶（如Ni-Ti）、储氢合金靶（如La-Ni-Al）、抗菌合金靶（Cu-Ag-Zn）、抗磨损合金靶（如Cr-Mo-V）、热电合金靶（如Bi-Te-Sb）、锡铟银靶（Sn-In-Ag）、镍钼铬靶（Ni-Mo-Cr）、铝铜镁靶（Al-Cu-Mg）、铁镍钴靶（Fe-Ni-Co）、钴铁靶（Co-Fe）、钴铬靶（Co-Cr）、锌锡靶（Zn-Sn）、锌镍靶（Zn-Ni）、镁锌靶（Mg-Zn）、镁铝靶（Mg-Al） |
贵金属靶precious metal target：
| 金靶（Au）、银靶（Ag）、锇靶（Os）、钌靶（Ru）、铱靶（Ir）、铑靶（Rh）、铂靶（Pt） |
贵金属合金靶precious metal alloy target：
| Au-Pd（金钯）、Pt-Rh（铂铑）、Ag-Pd（银钯） |
2. 陶瓷靶材（部分）Ceramic Target Materials (Partial)
氧化物靶oxide target：
| 二氧化硅靶（SiO₂）、二氧化钛靶（TiO₂）、氧化锌靶（ZnO）、氧化铟锡靶（ITO）、氧化铝靶（Al₂O₃）、氧化锆靶（ZrO₂）、氧化铪靶（HfO₂）、氧化铁靶（Fe₂O₃、Fe₃O₄）、氧化镍靶（NiO）、氧化钽靶（Ta₂O₅）、氧化钼靶（MoO₃）、氧化锡靶（SnO₂）、氧化铋靶（Bi₂O₃）、氧化镓靶（Ga₂O₃）、氧化镍钴靶（NiCo₂O₄）、氧化钒靶（V₂O₅、VO₂）、氧化钨靶（WO₃）、氧化铜靶（CuO、Cu₂O）、氧化钴靶（Co₃O₄）、氧化钆靶（Gd₂O₃）、氧化铒靶（Er₂O₃）、氧化镧靶（La₂O₃）、氧化铈靶（CeO₂） |
氮化物靶nitride target：
| 氮化钛靶（TiN）、氮化铝靶（AlN）、氮化硅靶（Si₃N₄）、氮化铬靶（CrN）、氮化钒靶（VN）、氮化钽靶（TaN）、氮化钼靶（MoN）、氮化镓靶（GaN）、氮化硼靶（BN）、复合氮化物靶、氮化铟靶（InN）、氮化铜靶（Cu₃N）、氮化铁靶（Fe₄N）、氮化钨靶（WN）、氮化铪靶（HfN）、氮化钕靶（NdN）、氮化镨靶（PrN）、氮化钇靶（YN） |
碳化物靶carbide target：
| 碳化硅靶（SiC）、碳化钨靶（WC）、碳化硼靶（B₄C）、碳化钛靶（TiC）、碳化钨靶（WC）、碳化钽靶（TaC）、碳化铪靶（HfC）、碳化钼靶（Mo₂C）、碳化铌靶（NbC）、碳化铬靶（Cr₃C₂）、碳化锆靶（ZrC）、碳化铁靶（Fe₃C）、碳化镍靶（Ni₃C）、碳化镧靶（LaC₂）、碳化金靶（AuC）、碳化铂靶（PtC）、碳化铱靶（IrC）、碳化锇靶（OsC）、碳化钯靶（PdC）、碳化铑靶（RhC）、碳化钌靶（RuC）、碳化钕靶（NdC₂）、碳化钇靶（Y₂C₃）、碳化钒靶（VC） |
硫化物靶sulfide target：
| 硫化锌靶（ZnS）、硫化镉靶（CdS）、二硫化钼靶（MoS₂）、硫化铅靶（PbS）、硫化铋靶（Bi₂S₃）、三硫化二铟靶（In₂S₃）、硫化银靶（Ag₂S）、硫化钴锡靶（CoSnS）、硫化铬靶（Cr₂S₃）、硫化铜铝靶（CuAlS₂）、硫化铜镓靶（CuGaS₂）、硫化铜靶（CuS）与硫化亚铜靶（Cu₂S）、硫化铜锡靶（CuSnS）、硫化铁靶（FeS₂）、硫化镓靶（GaS）与三硫化二镓靶（Ga₂S₃）、硫化锗靶（GeS）、二硫化锗靶（GeS₂）、硫化锑靶（Sb₂S₃）、硫化锡靶（SnS、SnS₂）、硫化钛靶（TiS₂）、硫化钽靶（TaS₂）、硫化钨靶（WS₂）、硫化锌镉靶（ZnCdS） |
硼化物靶boride target：
| 钛硼化物靶（TiB₂）、硼化铬靶（CrB₂）、硼化钼靶（MoB、MoB₂）、铪硼化物靶（HfB₂）、硼化钽靶（TaB、TaB₂）、复合硼化物靶、硼化锆靶材（ZrB₂）、碳化硼靶材（B₄C）、硼化铝靶材（AlB₂）、硼化铬靶材（CrB₂）、硼化钴靶材（Co₃B）、硼化铁靶材（FeB、Fe₂B）、硼化铪靶材（HfB₂）、硼化钨靶材（WB、WB₂）、硼化钼靶材（MoB、Mo₂B、Mo₂B₅）、硼化钽靶材（TaB、TaB₂）、硼化铌靶材（NbB、NbB₂）、硼化钒靶材（VB、VB₂）、硼化镧靶材（LaB₆）、硼化钐靶材（SmB₆）、硼化铈靶材（CeB₆） |
3. 复合靶材（部分）Compound Target Materials (Partial)
| 金属陶瓷靶（WC-Co）、铝-氧化铝梯度靶（Al-Al₂O₃）、梯度结构钛-氮化钛-碳化钛靶（Ti-TiN-TiC）、氧化铟-银靶（In₂O₃-Ag）、氧化锡-金靶（SnO₂-Au）、铜-铟-镓靶（Cu-In-Ga）、镍-铁-钴靶（Ni-Fe-Co）、碳化硅-硼化锆靶（SiC-ZrB₂）、碳化钛-硼化钛靶（TiC-TiB₂） |
| 多层复合靶（Mo/Cu/Mo）、硼化钛-碳化铬靶（TiB₂-Cr₃C₂）、硼化锆-碳化硅靶（ZrB₂-SiC）、钇-铝合金靶（Y-Al）、铈-铜复合靶（Ce-Cu）、氮化铬-碳化钨靶（CrN-WC）、氮化铝-碳化钛靶（AlN-TiC）、硫化镉-氧化锡靶（CdS-SnO₂）、硫化锌-氧化锌靶（ZnS-ZnO）、硫化镉-氧化锡靶（CdS-SnO₂） |
4. 蒸发加热材料（部分）Evaporative Heating Material (Partial)
| 钨（W）、钼（Mo）、钽（Ta）、镍铬合金（Ni-Cr）、石墨（C）、氮化硼（BN）、二氧化锆（ZrO₂）、钨-铼合金（W-Re） |
5. 蒸发舟种类Types of Evaporation Boats
| 钨舟（W舟）、钼舟（Mo舟）、钽舟（Ta舟）、镍铬合金舟（Ni-Cr舟）、石墨舟（C舟）、氮化硼舟（BN舟）、二氧化锆舟（ZrO₂舟） |
复合材质蒸发舟类Composite Material Evaporation Boats：
6. 光学蒸发镀膜蒸发材料（部分）Optical Evaporation Coating Materials (Partial)
纯金属材料pure metallic materials：
合金材料alloy material：
| 镍铬合金（Ni-Cr）、铝铜合金（Al-Cu）、铜铟镓硒合金（CuInGaSe） |
贵金属材料precious metal materials：
贵金属合金材料precious metal alloy materials：
氧化物材料oxide materials：
| 二氧化硅（SiO₂）、二氧化钛（TiO₂）、五氧化二钽（Ta₂O₅） |
氮化物材料nitride materials：
碳化物材料carbide materials：
硫化物材料sulfide materials：
| 硫化镉（CdS）、硫化锌（ZnS）、硫化镉（CdS） |
硼化物材料boride materials：
金属陶瓷类材料cermet materials：
7. 真空镀膜专用底漆与面漆/清晰/退镀材料（部分）Specialized Primers, Topcoats/Clear Coats/Stripping Materials for Vacuum Coating (Partial)
光固化底漆 UV-curable primer | 光固化中途漆 UV-curable surfacer | 光固化面漆 UV-curable topcoat |
热固化底漆 Thermosetting Primer | 热固化中途漆 Thermosetting Surfacer | 热固化面积 Thermosetting Area |
| 镀膜专用色浆 Special Color Paste/色精Dye for Coating |
| 亲水材料hydrophilic material、疏水材料hydrophobic material |
| 防指纹材料anti-fingerprint material |
| 表面清洗液Surface Cleaning Fluid |
| 涂层与薄膜层退镀液Stripping Solution for Coatings and Thin Films |
8. PVD、CVD、ALD、刻蚀专用气体（部分）PVD, CVD, ALD, and Etching Specialty Gases (Partial)
PVD专用气体Specialty Gases for PVD：
| 氩气（Ar）、氧气（O₂）、氮气（N₂）、甲烷（CH₄） |
CVD专用气体Specialty Gases for CVD：
| 硅烷（SiH₄）、氨气（NH₃）、三甲基铝（TMA，Al(CH₃)₃）、氢气（H₂）、四氯化硅（SiCl₄） |
ALD专用气体ALD-Specific Gases：
刻蚀专用气体Etching-Specific Gases ：
| 氯气（Cl₂）、三氟化氮（NF₃）、六氟化硫（SF₆）、氢溴酸（HBr） |
